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其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术，直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也行。
因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm，这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。
但做事不能考
《大国科技从山寨开始》第277章 EUV光刻机与DUV光刻机！ 正在手打中，请稍等片刻，
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